자회사 반도체 세정장비 제작업체 세메스
전 직원 등 반도체 세정장비 기술 국외 유출
삼성전자 자회사 세메스의 기술을 중국으로 유출한 일당이 재판에 넘겨졌다.
16일 법조계에 따르면 수원지검 방위사업·산업기술범죄형사부(부장검사 박진성)는 반도체 세정장비 제작업체 세메스의 반도체 세정장비 기술을 국외로 유출한 사건을 수사한 결과 세메스 전 직원이 중국으로 세메스가 세계 최초로 개발 미 양산한 기술을 빼돌린 정황을 확보했다. 이에 검찰은 세메스 전 연구원 등 4명을 구속기소하고 1명을 불구속 기소했다.
검찰은 부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설·영업비밀누설) 및 산업기술보호법 위반, 특정경제범죄법 위반(횡령) 등 혐의로 세메스 전 직원인 주범 A씨(47)를 구속기소했다.
부정경쟁방지법 위반(영업비밀누설) 및 산업기술보호법 위반 혐의로 세메스 전 연구원 B씨를 구속기소하고, 중국 국적의 기술 유출 브로커 C씨를 A씨와 같은 혐의로 구속기소했다.
또 세메스의 기술 유출에 가담한 협력사 대표 D씨와 협력사 직원 E씨도 산업기술보호법 위반 및 부정경쟁방지법 위반 혐의로 각각 구속·불구속 기소됐다.
해당 기술은 세메스가 세계 최초로 개발·양산에 성공해 국내 반도체 회사에 독점적으로 납품하는 초임계 반도체 세정장비 관련 국가핵심기술이다.
초임계 반도체 세정장비는 약액 등으로 20나노미터 이하의 메모리 반도체 집적회로를 만드는데 사용되는 웨이퍼를 세정한 후 웨이퍼를 건조시키는 단계에서 초임계 상태(임계 이상의 고온·고압의 물질의 상태)의 이산화탄소를 이용해 웨이퍼를 건조하는 장비다. 세메스가 세계 최초로 개발 및 상용화에 성공했다.
기판 손상을 최소화해 초미세 반도체의 불량률을 줄일 수 있는 기술이다. 산업부가 '국가핵심기술'로 지정하기도 했다. 현재 세메스 외에 일본 반도체 장비 회사 도쿄일렉트론(TEL)에서만 초임계 세정장비를 개발·생산 중이다.
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