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와이씨켐, 반도체 장비 첫 출하…고객 확보 박차

  • 송고 2024.07.01 14:52 | 수정 2024.07.01 14:53
  • EBN 이남석 기자 (leens0319@ebn.co.kr)

싱글 스핀과 배치 처리 가능한 반도체 세정 장비 개발

반도체 세정 장비 출하식 모습 [출처=와이씨켐]

반도체 세정 장비 출하식 모습 [출처=와이씨켐]

‘와이씨켐’은 신사업으로 추진하는 반도체 장비 첫 제품을 지난달 29일 국내 반도체 소재 기업에 공급하고 이를 기념하는 출하식을 열었다고 1일 밝혔다. 와이씨켐은 반도체 공정용 소재를 개발하는 기업으로 2022년 코스닥 시장에 상장됐다.


와이씨켐이 개발에 성공한 반도체 세정 장비는 싱글 스핀(spin)과 배치(batch) 처리 모두가 가능한 하이브리드 장비다. 향후 장비 모듈화를 통한 고도화를 거쳐 양산용 장비로 개발된다.


와이씨켐 장비 신사업부는 세정 장비 외에도 고선택비 인산 농도 분석 장비를 개발 중이다. 고선택비 인산 농도 분석 장비는 낸드(NAND) 생산 때 식각 공정에서 사용되는 고선택비 인산계 식각액의 농도를 실시간으로 측정해 교체 시기를 알려주는 장비다.


와이씨켐은 이번 첫 장비 출하를 바탕으로 다양한 고객을 확보해 신사업 장비 사업부의 매출 비중을 높여가겠단 계획이다.


와이씨켐 관계자는 “세정 장비는 연내 매출이 발생된다”며 “고선택비 인산 농도 측정장비는 연내 칩메이커 고객 평가를 받아 칩 메이커 양산에 적용될 수 있도록 최선을 다하고 있다”고 밝혔다.



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