에스앤에스텍 "창사 이래 최대 실적…블랭크마스크 사업 역량 지속 강화"

송고 2019.01.24 17:17 | 수정 2019.01.24 17:17
이경은 기자 (veritas@ebn.co.kr)

"블랭마스크 수요 증가 전망…EUV용 펠리클 개발로 도약"

반도체 및 디스플레이용 블랭크마스크 전문기업 에스앤에스텍이 주력 사업인 블랭크마스크 역량 강화를 통해 차세대 반도체 및 디스플레이 시장 선점에 나선다.

에스앤에스텍은 24일 서울 여의도 한국거래소에서 기관투자자와 애널리스트를 대상으로 블랭크마스크 사업 강화 및 기업 현황에 대한 설명회를 가졌다.

에스앤에스텍은 "올해 삼성전자 시스템LSI 사업 강화, SK하이닉스 2세대 10㎚ D램 양산계획 등 전방산업 호조와 중국의 LCD·OLED 생산라인 확장으로 포토마스크 원재료인 블랭크마스크 수요 증가가 예상된다"며 "이에 대응할 수 있는 기술력과 생산시설을 확보했다"고 밝혔다.

블랭크 마스크는 반도체 및 LCD·OLED 공정 핵심 재료인 포토마스크의 원재료로 패턴이 노광되기 전의 마스크를 말한다. 석영유리기판 위에 금속박막 필름이 증착되고 그 위에 감광액이 도포된 형태로 이뤄져 있다.

에스앤에스텍은 일본기업이 과점해오던 블랭크마스크 시장에 성공적으로 진출함으로써 국내 유일의 블랭크마스크 생산업체이자 세계 3대 블랭크마스크 전문 업체로 알려져 있다.

에스앤에스텍은 폴더블, 전장, VR 등 미래 산업 분야에서 OLED 수요 증가에 따라 블랭크마스크 수요도 증가할 것으로 전망돼 올해에도 실적 성장을 지속할 것이라고 설명했다.

에스앤에스텍은 지난해 매출액 610억원, 영업이익 51억원을 기록했다. 전년 대비 각각 13%, 112% 증가한 규모로 창사 이래 최대 실적이다.

에스앤에스텍은 미래 수익 사업으로 아직 세계적으로 상용화되지 않은 EUV용 펠리클 개발에 박차를 가해 EUV 펠리클 시장을 선점한다는 계획이다.

이에 앞서 에스앤에스텍은 지난해 9월 미국 EUVL 심포지움에서 개발 중인 경쟁사 대비 우월한 수준인 투과율 88%를 확보한 펠리클 시제품을 발표했다. 이는 양산에서 요구하는 대면적 풀 사이즈 사양에 만족하는 성과라고 회사 측은 설명했다.

에스앤에스텍 관계자는 "반도체 기술 고도화에 따라 미세공정 기술 확보와 EUV용 펠리클 개발을 통해 새로운 도약의 발판을 마련하겠다"고 말했다.

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