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삼성전자, 10나노 2세대 공정 양산…화성 S3라인 "준비 완료"

  • 송고 2017.11.29 11:00 | 수정 2017.11.29 11:13
  • 손병문 기자 (moon@ebn.co.kr)

검증된 1세대 공정 기반 개발 기간 단축…초기 수율 확보 용이

"10나노 기반 공정 8LPP 까지 확대, 10나노 장기 전략 지속"

삼성전자 화성캠퍼스 S3라인 전경

삼성전자 화성캠퍼스 S3라인 전경

삼성전자가 10나노 2세대 핀펫 공정(10LPP·Low Power Plus) 기반 SoC(System on Chip) 제품 양산을 시작한다.

29일 삼성전자에 따르면 10나노 2세대 공정은 기존 1세대 공정(10LPE·Low Power Early) 보다 성능과 전력 효율이 각각 10%, 15%씩 향상됐다.

10LPP공정은 이미 양산을 통해 검증된 1세대 공정을 기반으로 제품 개발부터 양산까지 걸리는 시간(TAT·turn-around time)이 대폭 줄었다. 초기 수율 확보가 용이한 것도 장점.

삼성전자의10LPP 공정이 적용된 제품은 내년 초 출시될 IT 신제품 탑재를 시작으로 다양한 고객과 응용처에 확대 적용된다.

삼성전자 파운드리 마케팅팀 이상현 상무는 "10LPP 공정은 고객에게 향상된 성능을 제공할 뿐만 아니라 높은 초기 수율을 통해 신제품 출시가 적기에 가능할 것"이라며 "10나노 기반 공정을 8LPP 공정까지 확대하는 등 10나노 장기 전략은 지속될 것"이라고 말했다.

또한 삼성전자는 10나노 2세대 공정 양산과 함께 화성캠퍼스 소재 S3 라인의 파운드리 공정 양산 준비를 완료했다. S3 라인은 기흥캠퍼스의 S1, 미국 오스틴의 S2 라인에 이은 세번째 파운드리 팹이다. 10나노 공정은 물론 EUV 기술이 적용된 삼성의 7나노 핀펫 공정도 이 곳에서 양산될 예정이다.


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