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동부하이텍, 반도체 개발기간 1개월 단축

  • 송고 2008.07.23 10:46 | 수정 2008.07.23 10:44
  • 김홍군 팀장 (kiluk@ebn.co.kr)

동부하이텍 반도체부문(대표 오영환 사장)은 23일 세계적인 반도체 설계 소프트웨어회사인 미국 멘토그래픽스(Mentor Graphics Corp.)社와 제휴해 구축한 OPC 프로그램을 최적화함으로써 반도체 제조공정기술 개발 기간을 최대 1개월 정도 단축할 수 있게 됐다고 밝혔다.

OPC(Optical Proximity Correction)란 반도체 제조 공정 중 복잡한 설계회로를 실리콘 웨이퍼 기판 위에 그려 넣는 포토공정(Photo Lithography)에서 빛의 특성 때문에 발생하는 굴절 등 왜곡 현상을 보정해 원하는 설계 회로를 웨이퍼 위에 정확히 패턴화할 수 있도록 미리 설계 데이터 값들을 조정해주는 프로그램이다.

특히 첨단 전자기기들이 점차 소형ᆞ경량화되면서 반도체 회로의 선 폭이 90나노급 이하로 정밀해진 하이엔드(High-End) 반도체와 한 개의 칩에 다양한 기능을 요구하는 SoC(시스템 온 칩) 반도체가 개발되면서 복잡한 반도체 설계 회로를 기판 위에 정확히 패턴화할 수 있는 OPC 기술의 중요성이 점차 부각돼 왔다.

동부하이텍은 선행공정개발팀 주관으로 올 3월부터 4개월 동안 진행한 공정기술 데이터를 분석해 시간이 오래 걸리고 상대적으로 중요하지 않은 데이터들의 연산범위를 줄이고 중요한 핵심 데이터들의 연산범위는 점차 늘려 최적의 설계 데이터를 확보했다.

동부하이텍은 최적화된 OPC프로그램을 통해 110나노 제품의 경우 통상적으로 10일 정도 걸리는 OPC 기간을 2일 이내로 단축시켰으며, 4~5개월 정도 걸리는 반도체 공정기술 개발기간 중 OPC가 3회 이상 진행되는 것을 감안하면 제품 양산시기를 약 1개월 이상 단축시킬 수 있게 됐다.

동부하이텍 관계자는 “OPC 프로그램 최적화를 통해 공정기술 개발 기간을 단축함으로써 급변하는 반도체 시장에서 고객의 제품을 신속하게 공급할 수 있게 되었다”면서 “멘토社와의 협력을 더욱 강화해 고품질의 반도체를 적기에 공급할 수 있는 수준 높은 서비스를 제공할 계획”이라고 밝혔다.


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