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포스텍, 2차원 반도체 나노재료 성장법 개발
- 송고 2014.01.15 17:58 | 수정 2014.01.15 17:39
- 박소희 기자 (shpark@ebn.co.kr)
대면적 및 원하는 기하학적 형태 제작
최희철 포스텍 화학과 교수. 제공=포스텍
포항공과대학교(포스텍·POSTECH)는 기초과학연구원 ´원자제어저차원전자계연구단´이 그래핀을 대체할 반도체 소재로 각광받고 있는 2차원 이황화몰리브덴(MoS2)을 원하는 형태로 제작 가능한 방법을 개발했다고 15일 밝혔다.
최희철 부단장 겸 그룹리더(포스텍 화학과 교수) 연구진은 금 촉매를 이용해 ´2차원 이황화몰리브덴´을 선택적으로 균일하게 합성했다.
이번 연구는 세계 최초로 2차원 이황화몰리브덴을 원하는 크기와 기하학적 형태로 균일하게 합성하고 이를 반도체 소자로 제작할 수 있음을 규명했다는 설명이다.
이번 연구 결과를 통해 2차원 이황화몰리브덴을 향후 굴절·투명 전자 소자와 같은 차세대 반도체 산업으로의 적용이 예상된다.
또 2차원 이황화몰리브덴은 반도체성 층상 재료(layered material)로서 그래핀과 구조적으로 유사하나 전도체인 그래핀과는 달리 반도체성을 지녀 태양전지, 저전력 트랜지스터, 플렉시블 디스플레이, 투명 전자소자 등 응용처가 매우 넓을 것으로 기대된다.
최희철 부단장은 "이번 연구 결과로 표면합금이라는 새로운 방법을 통해 기존의 성장방법이 이루지 못 했던 패턴화 성장을 처음으로 이뤘다"며 "이는 기존 실리콘 기반 반도체를 대체할 차세대 원천 소재의 합성방법을 개발했다는 점에서 의미가 있다"고 말했다.
이번 연구성과는 지난 14일 화학 분야의 권위 학술지인 ´안게반테 케미(Angewande Chemie)´ 온라인에 게재됐으며 1월호 표지 논문으로 게재됐다.
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